當一束光入射到薄膜表面時，薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉，干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。
反射膜厚儀是一種非接觸式、無損的、快速的光學薄膜厚度測量技術。
測量范圍: 1 nm - 1 mm
波長范圍: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2um -3 um
標準配置中包含：
1. 主機(光譜儀，光源，電線)
2. 反射光纖
3. 樣品臺及光纖適配器
4. TFCompanion軟件
5. 校準套裝
6. 測試樣品，200nm晶圓
廣泛的應用于各種工業生產及工藝監控中：
半導體晶圓，薄膜太陽能電池，液晶平板，觸摸屛，光學鍍膜，聚合物薄膜等
半導體制造：· 光刻膠 · 氧化物 · 氮化物
光學鍍膜：· 硬涂層 · 抗反射涂層 · 濾波片
生物醫學：· 生物膜厚度 · 硝化纖維
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